美國(guó)磁通Magnaflux顯像劑SKD-S2應(yīng)用領(lǐng)域及原理
溶劑型顯像劑SKD-S2應(yīng)用領(lǐng)域及原理
應(yīng)用范圍
缺陷位置: 表面開口缺陷；應(yīng)用范圍廣
可適用于熒光或著色兩種類型的滲透液，以及各種不同的檢測(cè)工藝，無(wú)需重新配制或者稀釋
SKD-S2符合ISO 3452標(biāo)準(zhǔn)要求，可適用于多種不同類型的工件
美國(guó)磁通Magnaflux顯像劑SKD-S2應(yīng)用領(lǐng)域及原理
適用于:焊接、機(jī)加工車間；現(xiàn)場(chǎng)作業(yè)
SKD-S2是一種無(wú)鹵的溶劑型顯像劑，可特殊合金鋼和核電行業(yè)的主要要求。 它是一種可以直接使用，快干的白色懸浮液，施加后能夠形成一層不透明的白色膜層，為滲透檢測(cè)提供能產(chǎn)生鮮明對(duì)比指示的背景。
應(yīng)用范圍
缺陷位置: 表面開口缺陷
適用于:
焊接
機(jī)加工車間
現(xiàn)場(chǎng)作業(yè)
SKD-S2已被列入QPL AMS 2644合格產(chǎn)品目錄。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
提高缺陷顯示的可見性
為滲透顯像過(guò)程提供一個(gè)最佳的工件表面條件，提高缺陷顯示效果
亮白、不透明的涂層可覆蓋工件原本的顏色，使得滲透液快速返吸至表面，形成明顯、清晰的缺陷顯示
應(yīng)用范圍廣
可適用于熒光或著色兩種類型的滲透液，以及各種不同的檢測(cè)工藝，無(wú)需重新配制或者稀釋
SKD-S2符合ISO 3452標(biāo)準(zhǔn)要求，可適用于多種不同類型的工件
清洗快速
后續(xù)清洗容易，可有效縮短檢測(cè)時(shí)間
產(chǎn)品特點(diǎn)
白度高
提供良好的背景反差
無(wú)熒光
依靠毛細(xì)作用將滲透劑吸出，形成缺陷顯示
快速干燥
施加容易
即用型，使用方便
極低毒性
不反光、不透明圖層
去除容易
符合標(biāo)準(zhǔn)
AECL
AMS 2644
ASME BPVC
ASTM E1417
ASTM E165
Boeing BAC 5423 PSD 6-46 or 8-4
Boeing PS-21202
GE P3TF2
GE P50YP107
Honeywell EMS 52309
ISO 3452-2
MIL-STD-2132
MIL-STD-271
NAVSEA 250-1500-1
NAVSEA T9074-AS-GIB-010/271
QPL SAE AMS 2644
